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670t/h鍋爐爐水二氧化硅超標(biāo)原因分析
發(fā)布時(shí)間:2013-05-13 07:33 來源:未知
鍋爐爐水中二氧化硅嚴(yán)重超標(biāo)時(shí),由飽和蒸汽攜帶進(jìn)入蒸汽系統(tǒng)的硅量增加,使蒸汽品質(zhì)劣化。2001年5月以來,長(zhǎng)春第二熱電有限責(zé)任公司1、2號(hào)爐爐水二氧化硅嚴(yán)重超標(biāo),2號(hào)爐蒸汽中二氧化硅質(zhì)量濃度最高可達(dá)46.0ug/L,但相應(yīng)的除鹽水活性硅質(zhì)量濃度一直小于20.0ug/L。為分析1、2號(hào)爐爐水水質(zhì)異常原因,相應(yīng)地進(jìn)行了生水、活性炭出口水和除鹽水的全硅、活性硅、膠體硅的跟蹤試驗(yàn)。根據(jù)試驗(yàn)結(jié)果分析了超標(biāo)原因,并提出了相應(yīng)的措施,現(xiàn)將這一過程介紹如下。
1、設(shè)備狀況
該公司化學(xué)水處理的生水引自石頭口門水庫(kù),生水經(jīng)汽輪機(jī)生水加熱器加熱至(40±1)℃送至化學(xué)水處理系統(tǒng),經(jīng)機(jī)械攪拌澄清使生水凝聚、沉淀后進(jìn)入重力式雙閥濾池,再經(jīng)活性炭過濾器除去水中有機(jī)物。一級(jí)除鹽設(shè)備為陽(yáng)離子浮動(dòng)床、除二氧化碳器、陰離子浮動(dòng)床系列。經(jīng)混床深度除鹽、氨化的除鹽水送至凝汽器、低壓除氧器,未加氨的除鹽水作為發(fā)電機(jī)內(nèi)冷水。2號(hào)爐在1998年8月進(jìn)行定期排污程控改造,目前運(yùn)行狀況良好。
生物質(zhì)鍋爐主要燃燒木屑顆粒機(jī)壓制的生物質(zhì)顆粒燃料。
2、二氧化硅超標(biāo)原因分析
2.1試驗(yàn)數(shù)據(jù)分析
在對(duì)汽水系統(tǒng)進(jìn)行了全面、系統(tǒng)檢查后,排除了凝汽器的泄漏影響;對(duì)1、2號(hào)爐定期排污系統(tǒng)和連續(xù)排污系統(tǒng)進(jìn)行相應(yīng)的檢查,發(fā)現(xiàn)除2號(hào)爐連排不暢外設(shè)備系統(tǒng)均正常工作,通過正常的排污仍然無法使?fàn)t水硅含量下降。
6月份分別對(duì)除鹽水、給水、爐水、蒸汽進(jìn)行了跟蹤試驗(yàn),發(fā)現(xiàn)給水的二氧化硅嚴(yán)重超標(biāo)。試驗(yàn)數(shù)據(jù)見表1,其中1號(hào)爐給水二氧化硅質(zhì)量濃度最高達(dá)71.1ug/L,2號(hào)爐給水二氧化硅質(zhì)量濃度最高達(dá)181.9ug/L(給水二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)為20ug/L)。
通過表2可見,除鹽水的全硅質(zhì)量濃度最高達(dá)760.0 ug/L,膠體硅質(zhì)量濃度最高為743.7ug/L,活性硅質(zhì)量濃度最高僅為16.3ug/L。
經(jīng)分析,由于該廠的生水是水庫(kù)水,水質(zhì)易受自然條件的影響,隨季節(jié)變化幅度較大,特別是2001年枯水期較長(zhǎng),水質(zhì)濃縮,而土壤和巖石的主要成分——鋁硅酸鹽在水中溶解度不大,成為懸浮物存在于水中,使生水的懸浮物和膠體雜質(zhì)含量較大。另外由于該廠的非活性硅試驗(yàn)一直沒有開展,所以在生水水質(zhì)全硅分析中不能掌握膠體硅的變化情況。
2.2理論分析
通過試驗(yàn)確定水質(zhì)異常是受生水的膠體硅影響。生水中的膠體硅以多分子聚合硅(Si02)m.(H20)x的狀態(tài)或顆粒狀硅(S102)x的狀態(tài)存在,其顆粒直徑大約為1~100um之間。由于比表面積很大,有明顯的表面活性,吸附許多結(jié)構(gòu)相似的分子或離子而帶電。帶電的膠體顆粒由于相互間存在電性斥力而具有一定的膠體穩(wěn)定性,均勻地存在于水中,不易用自然沉降的方法除去。
該公司所用普通凝膠樹脂的孔眼孔徑平均為1~2um,因膠體顆粒的直徑要大于離子交換樹脂的微孔直徑,很難通過離子交換將其除去。強(qiáng)堿性陰離子交換樹脂在常溫、低濃度水溶液中對(duì)常見離子的選擇性次序如下:SOi-、N03、CI-、OH-、HC03、HSi03。由此可見,離子交換樹脂對(duì)活性硅的選擇性最弱,也就是說活性硅很難被吸附,但被置換下來卻比較容易。一級(jí)化學(xué)除鹽一混床系統(tǒng)出水活性硅質(zhì)量濃度運(yùn)行控制小于20ug/L,難以通過離子交換除去的膠體硅和小部分活性硅隨補(bǔ)給水進(jìn)入汽水系統(tǒng)。隨著溫度、壓力、pH值升高,給水中硅化合物全部變?yōu)槿芙鈶B(tài),也就是我們現(xiàn)在測(cè)到的活性硅。在鍋爐水中硅化合物的存在形態(tài)主要是H2Si03及相應(yīng)的NaHS103和NazS103,它們之間存在以下水解平衡:HSi03 +H20→tH2S103+OH。從鍋爐出來的飽和蒸汽往往含有少量雜質(zhì),這些雜質(zhì)主要是鈉鹽和硅酸鹽等,使蒸汽受到污染。產(chǎn)生這種污染的原因主要有2個(gè):一個(gè)是機(jī)械攜帶,另一個(gè)是蒸汽的溶解攜帶。飽和蒸汽對(duì)各種物質(zhì)的溶解性具有選擇性,其中對(duì)硅酸的溶解能力最大。進(jìn)入到鍋爐內(nèi)的二氧化硅經(jīng)蒸發(fā),濃縮程度越來越高,因此通過溶解攜帶或機(jī)械攜帶進(jìn)入蒸汽中的二氧化硅含量也相應(yīng)增高,以致蒸汽二氧化硅含量超標(biāo)。
綜上所述,造成鍋爐水二氧化硅嚴(yán)重超標(biāo)的直接原因是受生水中膠體硅增加的影響,此膠體硅進(jìn)入汽水系統(tǒng)后轉(zhuǎn)化為溶解態(tài)硅,即活性硅,使鍋爐爐水中二氧化硅嚴(yán)重超標(biāo)。
3、降低二氧化硅的措施
a.增加設(shè)備調(diào)整試驗(yàn)的次數(shù),加大凝聚劑的加藥量,注意生水加熱器的投入。
b.增加定期排污次數(shù),增加連續(xù)排污門開度。
c.加強(qiáng)對(duì)水汽的監(jiān)督,增加化驗(yàn)次數(shù)及試驗(yàn)項(xiàng)目。系統(tǒng)查定周期可以根據(jù)具體情況適當(dāng)縮短,以便及時(shí)掌握生水水質(zhì)情況,應(yīng)嚴(yán)格進(jìn)行生水全硅的分析。
通過投入生水加熱器及對(duì)澄清池加藥劑量的調(diào)整,水質(zhì)于6月21日有所好轉(zhuǎn),但2號(hào)爐變化不明顯,這是由于連續(xù)排污不暢通,造成連排擴(kuò)容器汽水混合物回到除氧器,造成給水污染,此缺陷已在小修中得到了解決。
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